The Most Widely Used Ionization Etching Gas in the Microelectronics Industry, High Purity Tetrafluoromethane Gas

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Quzhou Rongqiang Chem Co., Ltd. 19 yrs

CN

The Most Widely Used Ionization Etching Gas in the Microelectronics Industry, High Purity Tetrafluoromethane Gas

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주요 속성

핵심 산업 사양

CAS 번호

75-73-0

순수성

99.99%

기타 속성

분류

알켄 & 유래물

원래 장소

Zhejiang, China

기타 이름

탄소 Tetrafluoride

MF

CF4

EINECS 번호

200-896-5

급료 기준

농업 학년, 전자 급료, 식품 학년, 산업 급료, 약 급료, 시약 급료

외관

무색

신청

냉매 가스

유명 상표

SINOLOONG

모델 번호

R14

분자 질량

88.005

임계 온도 (℃)

-45.64

끓는 점 (1atm/℃)

-128.05

순도

≥ 99.99%

임계 압력 (Mpa)

3.75

중요한 Desity(g/cm³)

0.6257

ODP

0

질소

≤ 0.03%

산소

≤ 0.01%

이산화탄소

≤ 10PPm

포장 및 배송

포장 세부정보

포장 강철 실린더 iso 탱크. 충전 비율은 0.75KG/L 미만
시원하고 건조하며 통풍이 잘되는 곳에 보관합니다. 햇빛과 비에 노출되지 마십시오.
항구: 닝보, 칭다오, 상하이
리드 타임: 7-15 일 이내

판매 단위:

단일 품목

단일 패키지 크기:

16X16X80 cm

단일 총 중량:

23.000 kg

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